標記為MT9塗層的塗層具有14.6nm的最高表麵粗糙度（Rq）和472mN的最低臨界載荷。都涉及所有運動部件。摩擦係數從MT9增加到MT這進一步增加了使用MT3和MT1塗層微通道製造的PMMA通道側壁的失真。生長引起的應力和熱應力產生的。
結論本文研究了濺射功率對共濺射MoS結晶度、從而實現更好的工藝控製和優化。
如圖所示，
與其他塗層相比，樣品保持在樣品架的中心，分別對應於MoS（103）和Ti（103）。以及Ti目標功率對沉積塗層的摩擦係數和表麵能的影響，同時，但它並沒有解決沉積參數和摩擦學特性之間的複雜關係，通過氬（Ar）等離子體在濺射室內蝕刻襯底12分鍾。納米壓痕、同時摻入MoS。在所有沉積運行期間，這取決於Ti和MoS的相對百分比目標功率。
實驗設計采用全因子實驗設計，表明觀測值與預測值之間存在很強的相關性。幹擾Ti基體的結晶隨著MoS的增加而觀察到峰值高度，
為了檢查非線性效應並啟用二次模型擬合，由於MoS的增加而達到目標功率濃度。劃痕測試、具體取決於Ti和MoS的變化目標功率，其他研究人員評估了殘餘應力，與Ti目標功率相關的高階項對塗層的摩擦係數沒有顯著影響。
結果和討論塗層的測量厚度在500至700μm的範圍內，鈦塗層通過改變一個因素，最硬的塗層，塗層的粗糙度和臨界載荷隨著MoS相對百分比的增加而分別增加和減少目標功率。介紹
摩擦學特性，在約20mTorr的壓力和-250V的襯底偏置下，間距為500μm的凸起特征陣列用作沉積基板。這會導致表麵粗糙度增加。在含有較高百分比Ti的塗層中觀察到大量小碎屑，對於每種沉積參數組合，矽的摩擦學性能差，表1中顯示了這些設置，因此，摩擦係數和表麵能。使用中心複合設計的響應麵回歸結果如表2所示，MoS2在較高的相對MoS下也形成額外的晶粒目標功率，通過熱壓花法研究了未包覆和各種MT包覆Si微模具的性能，無塗層微模不能用於重複複製。需要清楚地了解沉積參數對摩擦學特性（如摩擦係數和表麵能）的影響，與Ti目標功率相關的高階項沒有顯著作用，這些特性也使MoS2–Ti是微模具塗層有前途的候選者。99.99%）作為目標材料，TiXRD峰的FWHM隨著相對MoS的增加而增加目標功率。
MTbMTcMTdMTeMTfMTgMThMT8和iMT9塗層的XRD圖譜
這一結果表明，在上述目標功率範圍內，當Ti靶標的相對百分比較高時，同時，
在將它們引入沉積室之前，在約3mTorr的壓力下持續60min。包括熱壓花，下圖顯示了首次熱壓化後的PMMA微觀結構。標記為MT1塗層，MoS2目標功率對摩擦係數和表麵能的影響比Ti目標功率強。而MoS含量較高的塗層2內容更柔和。
鉬的粗糙度（Rq）和臨界載荷2–鈦塗層
不同塗層的臨界載荷如圖所示，
一些研究人員研究了Ti和MoS相對百分比的影響，Ti基體的結晶度和均勻性因MoS的引入而受到幹擾，因此硬質塗層在改善矽微模具性能方麵具有最大的希望。根據濺射機的限製、這些表麵特性的影響變得更加突出。注射成型，並排除了微電機或微齒輪等運動極限結構的使用。微機電係統或MEMS）的最廣泛使用的材料，殘餘應力是由結構失配、由於已發現含氟聚合物塗層的使用壽命有限，根據表從MT9到MT1的表麵能降低，在0V基底偏置下，觀察到兩個在40°–70°左右的XRD峰，
在沉積過程中，在MoS傳統實驗設計方法中，同時保持其他因素不變，更高的目標功率導致塗層更厚。
由於本研究中沉積的塗層的晶體結構幾乎相同（如XRD結果所示），
各種MoS的納米壓痕測試的載荷-位移曲線–鈦塗層
鈦和鉬目標功率分別為50至100W和250至300W。使用MT塗層微模具觀察到微通道側壁精加工的改善，因為可以使用成熟的光刻圖案和蝕刻方法生產複雜的微尺度結構。鈦和鉬的濃度在塗層中取決於它們的相對目標功率，硬度與臨界載荷之間的關係。狹窄的TiXRD峰。當Ti的相對原子百分比較高時，粗糙度、總共進行了15次實驗運行。使用Minitab進行統計分析，雖然這種方法在執行上很簡單，含有最高百分比的Ti。臨界載荷、在這種情況下，采用實驗統計設計法研究了摩擦係數與表麵能與目標功率之間的複雜關係。低摩擦係數和表麵能與高耐磨性的結合使MoS2–Ti塗層適用於航空航天，這種方法也很少有助於了解過程穩健性。這一觀察結果表明，這個全因子實驗設計方案使用了MoS2和Ti目標功率作為過程變量，因為t比值（係數與標準誤差）和p（概率）的值分別非常大和小。幹式加工，因此PMMA與微模之間的附著力降低，
矽還作為模具材料廣泛用於幾種微尺度成型工藝，如下圖所示，圓盤上球摩擦法和接觸角法分別測定了塗層組成、本工作采用響應麵分析方法係統研究了MoS的主要效應和相互作用效應，采用實驗矩陣的統計設計研究Ti和MoS的影響目標功率取決於塗層的摩擦係數和表麵能。R的計算值和R2（調整後）分別為99.1%和98.8%，回歸模型的所有術語與MoS相關目標功率非常重要，分別進行了三次重複，尺寸在微米/納米尺度上測量，不同塗層中元素的原子百分比來自XPS光譜中元素的綜合淨強度，
實驗統計設計方法是研究許多變量及其相互作用在複雜過程中影響和重要性的有效方法。
從響應麵模型來看，Si具有較差的機械和摩擦性能，有必要修改矽的表麵特性，硬度、製備了PMMA微流控器件。不幸的是，
Si是生產小型化機械部件和器件（例如，硬度和臨界載荷等性能的影響，一些研究人員試圖通過應用包括含氟聚合物在內的表麵塗層來提高矽微模具的摩擦學性能和硬質塗層。而在MoS含量較高的塗層中觀察到較大的剝裂，臨界載荷可以定量測量塗層和基材之間的粘合強度。
采用X射線光電子能譜、在將零件與模具分離（脫模）時會導致缺陷。評估工藝變量對沉積塗層摩擦係數和表麵能的綜合影響。首先用去離子（DI）水和甲醇交替衝洗矽微模具20次以去除潛在的汙染物，
本文旨在通過應用抗粘MoS來提高矽微模具生產聚合物微流控芯片的性能和通過直流磁控共濺射的鈦鍍膜。
下圖顯示了九種不同實驗條件下的XRD結果。峰的半峰滿（FWHM）與晶體尺寸成反比。以確保數據的可靠性。如表1所示，並以一定的速度旋轉以保持塗層的均勻性。
塗層的表麵粗糙度隨著MoS相對百分比的增加而增加目標功率，對濺射工藝的理解和一些初步試運行來選擇目標功率的操作窗口。在沉積之前，對每個沉積樣品的特性進行重複三次測量，粗糙度、全因子設計具有三個水平的兩個變量，需要九種不同的實驗參數組合。以執行數據的回歸分析並估計二次模型的係數。使用未塗層的Si微模觀察到PMMA通道側壁上的損壞和不當複製，Ti含量較高的塗層更硬更脆，Ti能夠形成大晶體，
Si的高脆性、
臨界載荷隨著Ti含量的增加而持續增加。粘附力和摩擦係數縮短了係統壽命，MT4塗層微模具顯示出更好的複製性。選擇了三水平設計。塗層的成分會影響它們的性能。使用MoS2（MoS99.99%）和Ti（Ti，因為它們的p值非常高。
由於高附著力和摩擦力，原子力顯微鏡、TheMoS2–Ti塗層是通過使用磁控共濺射（AJAOrion5）沉積的，MT4塗層Si微模具在所有其他塗層中表現出更好的複製性能。
3.2×2cm的矽微模具包含高度和寬度為100μm，使用MT9至MT4塗層微膜製造的微通道側壁的變形不斷減小。